KONTAN.CO.ID - BEIJING. China selangkah lebih dekat menuju kemandirian industri semikonduktor. Negeri Tirai Bambu ini dilaporkan telah membangun prototipe mesin litografi extreme ultraviolet (EUV), teknologi kunci untuk memproduksi cip paling canggih yang selama ini dimonopoli perusahaan Belanda, ASML. Prototipe tersebut rampung pada awal 2025 dan kini memasuki tahap pengujian di sebuah laboratorium berkeamanan tinggi di Shenzhen. Meski belum mampu memproduksi cip yang berfungsi penuh, mesin tersebut sudah berhasil menghasilkan cahaya EUV, komponen utama dalam proses fabrikasi cip berteknologi tinggi. Menurut laporan Reuters (18/12), prototipe ini dikembangkan oleh tim ilmuwan China yang melibatkan mantan insinyur ASML. Mereka melakukan rekayasa balik (reverse engineering) terhadap mesin EUV generasi lama, dengan memanfaatkan suku cadang yang diperoleh dari pasar sekunder.
China Bakal Bisa Produksi Cip Lebih Cepat dari Prediksi
KONTAN.CO.ID - BEIJING. China selangkah lebih dekat menuju kemandirian industri semikonduktor. Negeri Tirai Bambu ini dilaporkan telah membangun prototipe mesin litografi extreme ultraviolet (EUV), teknologi kunci untuk memproduksi cip paling canggih yang selama ini dimonopoli perusahaan Belanda, ASML. Prototipe tersebut rampung pada awal 2025 dan kini memasuki tahap pengujian di sebuah laboratorium berkeamanan tinggi di Shenzhen. Meski belum mampu memproduksi cip yang berfungsi penuh, mesin tersebut sudah berhasil menghasilkan cahaya EUV, komponen utama dalam proses fabrikasi cip berteknologi tinggi. Menurut laporan Reuters (18/12), prototipe ini dikembangkan oleh tim ilmuwan China yang melibatkan mantan insinyur ASML. Mereka melakukan rekayasa balik (reverse engineering) terhadap mesin EUV generasi lama, dengan memanfaatkan suku cadang yang diperoleh dari pasar sekunder.